X射線熒光光譜儀的設(shè)計(jì)特點(diǎn)及工作原理
2023-02-23
X射線熒光光譜儀具有重現(xiàn)性好，測量速度快，靈敏度高的特點(diǎn)。能分析F(9)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對(duì)象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業(yè)樣品。無標(biāo)半定量方法可以對(duì)各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結(jié)果，結(jié)果準(zhǔn)確度對(duì)某些樣品可以接近定量水平，分析時(shí)間短。薄膜分析軟件FP-MULT1能作鍍層分析，薄膜分析。測量樣品的最大尺寸要求為直徑51mm，高40mm。
X射線熒光光譜儀的特點(diǎn)：
1、X射線熒光(XRF)是一種非破壞性的元素分析技術(shù)，可以測量您的工藝流，而不會(huì)造成任何損失或化學(xué)/物理變化。由此實(shí)現(xiàn)的實(shí)時(shí)在線分析可以快速優(yōu)化許多工藝參數(shù)和產(chǎn)品屬性。
2、EpsilonXflow采用經(jīng)過驗(yàn)證的強(qiáng)大Epsilon3X技術(shù)，該技術(shù)由激發(fā)和探測技術(shù)提供支持。設(shè)計(jì)精良的光路、適合輕元素和重元素的廣泛激發(fā)功能，加上高靈敏度SDD探測器系統(tǒng)，這一切造就了Epsilon3X的強(qiáng)大性能。所有這些創(chuàng)新共同產(chǎn)生了高度可重復(fù)和準(zhǔn)確的結(jié)果，并且維護(hù)需求低。
3、EpsilonXflow的靈活設(shè)計(jì)使其在許多不同的工藝和工藝條件下都可輕松地實(shí)現(xiàn)集成。我們提供完整解決方案，能夠應(yīng)對(duì)不同的條件。
X射線熒光光譜儀（XRF）是由激發(fā)源（X射線管）和探測系統(tǒng)組成的。X射線管產(chǎn)生入射X射線（一次X射線），激發(fā)被測樣品。每一種元素會(huì)放射出二次X射線在受到激發(fā)的樣品中，然而具有特定的能量特性或波長特性是由不同的元素所放射出的二次X射線。探測系統(tǒng)測量這些放射出來的二次X射線的能量及數(shù)量。之后成樣品中各種元素的種類及含量被儀器軟件將探測系統(tǒng)所收集到的信息轉(zhuǎn)換成。
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